氟化鎂標準晶體具有很好的光學性能、機械性能及化學穩定性，是一種非常重要的光功能晶體材料，其用途十分廣泛，常被用來制作鎂薄膜。
除了在光學領域有重要的應用之外，其在催化劑領域也有比較廣泛的應用。由于表面化學活性低、耐腐蝕性極強，可以作為催化劑或者催化劑載體用于特殊環境下的催化反應中。研究表明，主要的適用催化體系有：加氫脫硫反應、CO氧化反應、丙酮的光降解反應，并且在俺有腐蝕氣體及反應介質的催化反應體系中具有獨特的優勢，在已經報道的提高比表面積以及表面酸性的方法有，在張混合一定比例的氧化鎂或者金屬雜質等。熱壓多晶體材料在紅外光學領域中也有較大的功效。其熔點在1248攝氏度。在波長為3到5μm范圍內，本身具有良好透過性、機械強度高和耐腐蝕等特點，是良好的紅外窗口和整流罩以及民用紅外探測儀的候選材料。目前該研究重點是進一步提高材料的品質與性能，特別是在該領域的研究重點是進一步提高材料的品質與性能，提別是提高力學性能。
雖然氟化鎂薄膜制備過程比較繁瑣，但因其具有折射率低、透明波段寬、能隙寬、熱穩定性好、機械強度大和激光損傷閾值高等優異性能，所以它成為了制備增透膜、高反膜和高損傷閾值膜的重要材料。一起來了解一下，薄膜在各種光學膜層制備中的應用吧。
氟化鎂標準性質及用途 為無色晶體或粉末，是一種重要的
無機化工原料。用作電解鋁的添加劑、冶煉金屬鎂的助熔劑、鈦. 在鋁的生產中
氟化鋁作電解浴組分，用以降低熔點和提高電解質的電導率。用于生產酒精時作發酵的抑制. 擁有較低的折射率低，能夠與高折射率材料組成較寬帶隙，可用作作光子晶體中的低折射率材料。. 將粉料與高純PbF2粉料均勻混合，裝入鉗堝，把鉗堝放在坩堝座上，裝好加熱體，調整坩堝底部.
1.制作Cu-MgF2納米金屬陶瓷薄膜
研究人員通過真空蒸發技術制備出Cu-MgF2納米金屬陶瓷薄膜。微結構分析表明該薄膜由fcc-Cu晶粒均勻分布于主要呈非晶態的MgF2陶瓷基體中構成的，其平均粒度約為14～16nm。
2.制作MgF2-TiO2混合漸變折射率薄膜
由研究人員利用混合介質理論模型和TFCalc膜系設計軟件，通過雙源共蒸工藝制備了MgF2-TiO2混合漸變折射率薄膜。結果發現這種薄膜在400至800nm波段的平均反射率僅為5.56%，減反特性優于分層介質減反膜，適合于全天候的服役環境。
3.用作鏡頭材料
在玻璃基體上鍍制薄膜，以增加光的透過率的實際應用中，就單層增透膜而言，最常使用的就是氟化鎂標準，因為它不僅有合適的折射率，接近于單層膜的理論值，而且它質地堅硬，穩定性好。因此，它除了起增透的作用外，還是一層保護膜，可以增加某些玻璃的化學穩定性。
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